Autor: VIANA, L.T.

Orientador: MAGALHÃES, C.S.

Outros autores: MANCUZO, A V [OUTROS]; CORREIA-SILVA, J F [PID(PROGRAD]; FERREIRA, R C;;

Linhas de pesquisa no CNPq: CIÊNCIAS DA SAÚDE / CLÍNICA ODONTOLÓGICA

Unidade: FACULDADE DE ODONTOLOGIA
Departamento: ODONTOLOGIA RESTAURADORA

Palavras-Chave: RESTAURAÇÕES DENTÁRIAS - VEDAMENTO MARGINAL - ACABAMENTO E POLIMENTO

Embora os fabricantes de ionômeros de vidro modificados por resina (IVMR) recomendem o polimento imediato das restaurações, fatos relacionados à composição, reação de presa e propriedades desses materiais induzem a investigações mais detalhadas. O objetivo deste estudo foi avaliar o efeito do polimento imediato sobre o vedamento marginal de restaurações de IVMR. Foram preparadas 126 cavidades cilíndricas (diâmetro=2,0mm; profundidade=1,5mm) na superfície radicular de dentes bovinos extraídos. Os dentes foram restaurados, aleatoriamente, com Vitremer (3M) ?M1? e Fuji II LC (GC Corporation) ?M2?, segundo as recomendações dos fabricantes, e divididos em três grupos (n=21): grupo T1- polimento imediato com discos de óxido de alumínio; grupo T2- polimento após sete dias; grupo T3- polimento imediato e armazenamento em meio úmido, a 37oC por 7 dias. Os espécimes foram submetidos, simultaneamente, a um teste de penetração de corante. A infiltração marginal foi avaliada por 3 examinadores calibrados, empregando uma escala ordinal previamente estabelecida. Os dados foram submetidos ao teste Kappa para concordância entre examinadores e à análise estatística não-paramétrica (?=0,05). O resultado do teste Kruskal-Wallis indicou os seguintes valores dos postos médios: M1T1 (44,9) > M1T2 (25,5) > M1T3 (17,2); M2T1 (39,7) = M2T2 (32,9) > M2T3 (21,3). Para M1, o polimento imediato produziu maior infiltração marginal, enquanto para M2, o polimento imediato foi similar ao tardio. Para ambos os materiais, o polimento imediato seguido de armazenamento por uma semana, em ambiente úmido, produziu os menores valores de microinfiltração. O material Vitremer apresentou infiltração marginal menor que Fuji II LC, nos tempos de polimento T2 e T3.

Apoio: PIBIC (CNPq) Auxílio FAPEMIG Processo no.CDS-83/01p>