Autor: DIAS, M. H.

Orientador: MAGALHÃES-PANIAGO, R

Outros autores: MALACHIAS, A [CNPQ];;

Linhas de pesquisa no CNPq: 1.05.00.00-6 / 1.05.07.00-0

Unidade: INSTITUTO DE CIÊNCIAS EXATAS
Departamento: FÍSICA

Palavras-Chave: RAIOS-X - ESPALHAMENTO - MULTICAMADAS

O estudo da estrutura interna de novos materiais necessita de equipamentos analíticos como um difratometro de raios-x de 4 circulos. Um difratômetro completo possui quatro graus de liberdade (ângulos ???????? e ?), uma fonte de raios-x (que nesta montagem é de molibdênio K-alfa, ?=0.792Å ) e de um conjunto de monocromador e de deteçãao de raios-x. Neste trabalho mostramos o desenvolvimento de um equipamento de difracao de raios-x construído no Laboratório de Cristalografia do Departamento de Física da UFMG. O principal elemento construído no DF_UFMG foi o monocromador de raios-x. O feixe de raio-X passa primeiro por uma fenda colimadora e em seguida o comprimento de onda da radiacao é selecionado por um monocromador de Si(111). O monocromador é um cristal fixado em um motor de passo que é utilizado para mudar o ângulo com relação ao feixe. Variando este ângulo, selecionamos qual comprimento de onda será refletido. Esse fenômeno é explicado pela lei de Bragg, ? = 2dsen(?), onde d é a distancia dos planos atômicos do cristal e? ??o ângulo de incidência do feixe no cristal. O feixe refletido pelo monocromador passa por outra fenda e incide na amostra. Os feixes agora difratados passam por outra fenda e são analisados pelo detetor de raios-x (contador proporcional). Quando um fóton atinge o detetor envia um pulso eletrico que caso corresponda a um foton com mesmo comprimento de onda é selecionado pela eletrônica do analisador monocanal. Após esta seleção, o sinal é enviado para o computador que controla o difratômetro. Mostramos o diagrama deste difratômetro juntamente com fotos do equipamento já completamente montado.; Mostramos também neste trabalho algumas medidas que já foram realizadas utilizando um difratometro de raios-x semelhante ao que foi construído. As medidas foram feitas em filmes finos metálicos crescidos em ambiente de ultra-alto vácuo, e tem a seguinte estrutura nominal: substrato de MgO com 680Å MnF2 + ZnF2, 80Å Fe, 50ÅA Al). Ajustes de refletividade de raios-x destas amostras são mostrados. Medidas semelhantes serão realizadas com nosso equipamento para comparação dos resultados.

Apoio: PRONEX, FAPEMIG, CNPq (Instituto do Milênio)p>